[뉴스] 유럽·일본 독점 깼다” 테스, 차세대 전력반도체 SiC 에피 장비’ 상용화

최근 국내 반도체 업계에 반가운 소식이 전해졌습니다. 바로 실리콘카바이드(SiC) 전력반도체 제조 핵심 공정을 위한 고성능 에피택시 장비를 국내 기업이 독자 기술로 상용화하는 데 성공한 것인데요. 이는 기존까지 유럽과 일본 업체들이 사실상 독점하던 시장에 도전장을 내민 의미 있는 성과로 평가받고 있습니다.

“유럽·일본 독점 깼다”라는 수식어가 붙는 이 혁신의 핵심은 바로 테스가 개발한 차세대 전력반도체 SiC 에피 장비인 ‘트리온(TRION)’입니다. 이 장비는 전력반도체 기술의 핵심 공정인 에피택시 성장을 위한 고온 화학기상증착(HTCVD) 기술을 적용했으며, 1650도의 극고온에서도 웨이퍼 표면의 온도 편차를 5도 이내로 정밀 제어할 수 있는 기술력을 갖추고 있습니다.

이러한 기술적 성과의 배경에는 온도 균일성과 도핑 농도 제어라는 난제들을 극복하기 위한 오랜 연구개발(R&D)이 숨겨져 있습니다. 특히, 반도체 결정 구조가 단단하고 불순물 투입이 어려운 SiC의 특성을 고려할 때, 이번 상용화는 국내 기술 경쟁력을 획기적으로 끌어올린 사례로 기록됩니다.

이제는 글로벌 고객사들로부터 성능 검증도 마친 상태이며, 전기차, 통신, 산업용 전력반도체 시장의 수요 증대에 힘입어 시장 주도권 확보가 기대됩니다. 테스의 ‘트리온’이 보여준 기술 혁신은 앞으로 국내 반도체 산업의 미래를 밝히는 중요한 발판이 될 것입니다.

이제까지 유럽과 일본이 독점하던 시장에 도전장을 내민 국내 기업의 도약, 그 비밀은 바로 첨단 온도 제어와 정밀 도핑 기술에 있습니다. 앞으로 어떤 새로운 변화가 펼쳐질지 기대하며 지켜봐 주세요.

트리온(TRION), 차세대 전력반도체 시장을 선점하다

최근 국내 반도체 장비 기업인 테스가 국내 기술로 ‘유럽·일본 독점 깼다’라는 평가와 함께 차세대 전력반도체 시장의 판도를 바꿀 혁신적인 장비를 선보였습니다. 바로 실리콘카바이드(SiC) 전력반도체 제조에 필수인 에피택시 공정을 위한 고온 화학기상증착(HTCVD) 장비, ‘트리온(TRION)’입니다.

이 장비는 지난 3년간의 집중적인 연구개발 끝에 탄생했으며, 기존 경쟁사들이 장악하던 시장을 뛰어넘는 기술력과 정밀도를 자랑합니다. 특히, 1650도라는 극고온에서도 웨이퍼 전면의 온도 편차를 5도 이하로 유지하는 기술과 미세한 도핑 농도 제어가 가능하다는 점이 경쟁 제품과 차별화됩니다. 이러한 성과를 바탕으로 국내 기업이 처음으로 글로벌 시장에서 이 중요한 시장을 선도할 수 있는 기반을 마련한 셈입니다.

전력반도체는 전기차, 산업용 모터, 태양광 인버터, 데이터센터 전원 장치 등 고전압 및 고전류 환경에서 핵심적으로 사용되며, SiC 소재의 뛰어난 전력 효율과 낮은 발열 특성은 기술적 혁신을 이끄는 원동력입니다. 그러나 결정 구조의 강인함과 복잡한 에피 성장 기술로 인해 기술 장벽이 높았던 만큼, 테스의 ‘트리온’이 갖는 의미는 크다 할 수 있습니다.

이 첨단 장비는 기존 팬케이크형 반응기보다 우수한 에피 성장 품질과 유지보수 편의성을 제공하며, 전기차와 통신, 산업용 전력반도체 시장의 수요 급증에 따른 경쟁 우위를 확보할 전망입니다. 이번 상용화로 국내 기술이 글로벌 시장의 판도를 재편할 가능성과 함께, 차세대 SiC 전력반도체 시장의 주도권을 잡기 위한 첫 걸음을 내딛은 셈입니다.

이처럼 ‘유럽·일본 독점 깼다’라는 수식어와 함께 선보인 테스의 ‘트리온’은 향후 전력반도체 산업에서 중요한 기술 혁신의 상징이 될 것으로 기대됩니다. 국내 기술력으로 글로벌 시장의 문을 열어가는 이 순간이, 앞으로의 반도체 산업 성장에 큰 동력을 제공할 것임은 분명합니다.

Reference

한국경제: https://www.hankyung.com/article/202509116765i